產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品

產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
該設(shè)備主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備(磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜)及熱處理等,?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩(wěn)定性能,賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
詳情介紹:
粉體包覆磁控鍍膜儀是通過粉體在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn),以達(dá)到粉體表?均勻包覆的效果。
腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜,能快速出料。粉體包覆是指將?種或多種粉體顆粒投?到包覆設(shè)備中,通過物理或化學(xué)?法形成?層覆蓋在顆粒表?的物質(zhì)。粉體包覆的?的可以是改變顆粒表?的性質(zhì)、增加顆粒的穩(wěn)定性、控制顆粒的釋放速率等。
設(shè)備特點(diǎn)
可旋轉(zhuǎn)高純石英反應(yīng)腔,內(nèi)帶石英擋板,使樣品在不停的翻滾過程中,受熱更充分、鍍膜更均勻。
配備紅外加熱模塊,可實(shí)現(xiàn)快速升溫
設(shè)備參數(shù)
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機(jī)功率 | 3KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
數(shù)量 | 1 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ100Xφ150Xφ100mm |
腔體材質(zhì) | 高純石英 | |
旋轉(zhuǎn)速度 | 0-20rpm | |
傾斜角度 | 0-15° | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S | |
濺射電源 | RF電源,功率300W*1 | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
設(shè)備尺寸 | 1800*630*1100 | |
設(shè)備重量 | 200kg |